机译:在H 2 O存在下Ni(111)和Ni(100)表面上的CO2激活:环境压力X射线光电子能谱研究
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机译:H2O存在下钴表面上的CO2活化:环境压力X射线光电子谱研究
机译:CO_2的循环利用:环境压力X射线光电子能谱研究甲烷化反应过程中Ni(111)表面的化学状态
机译:(邀请)使用基于同步的环境压力X射线光电子谱探测Ni的LINI_XCO_YMN_ZO_2(X + Y + Z = 1)正极材料的原位表面化学探测
机译:通过化学力显微镜和X射线光电子能谱表征化学改性的硅(111),聚甲基丙烯酸甲酯和聚二甲基硅氧烷表面。
机译:各种清洗方法对水基缓冲层浸涂Ni-5%W衬底的影响:X射线光电子能谱研究
机译:H2O,CO2和CO与ZrO2(111),Ni / ZrO2(111),YSZ(111)和Ni / YSZ(111)表面相互作用的密度泛函理论研究
机译:Ni(100)上的硫吸附及其对CO化学吸附的影响。 II。 Ups(紫外光电子能谱)和Xps(X射线光电子能谱)结果