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Evidence for breathing modes in direct current, pulsed, and high power impulse magnetron sputtering plasmas

机译：直流，脉冲和高功率脉冲磁控溅射等离子体呼吸模式的呼吸模式

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Yuchen Yang; Xue Zhou; Jason X. Liu; André Anders;
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年度 2016
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1. Evidence for breathing modes in direct current, pulsed, and high power impulse magnetron sputtering plasmas [J] . Yuchen Yang, Xue Zhou, Jason X. Liu, Applied Physics Letters . 2016,第3期

机译：直流，脉冲和大功率脉冲磁控溅射等离子体中呼吸模式的证据
2. β-Ta and α-Cr thin films deposited by high power impulse magnetron sputtering and direct current magnetron sputtering in hydrogen containing plasmas [J] . Hans H?gberg, Lina Tengdelius, Mattias Samuelsson, Physica, B. Condensed Matter . 2014,第Null期

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3. Plasma characterization in reactive sputtering processes of Ti in Ar/O-2 mixtures operated in metal, transition and poisoned modes: a comparison between direct current and high-power impulse magnetron discharges [J] . Haase Fabian, Kersten Holger, Lundin Daniel The European physical journal, D. Atomic, molecular, and optical physics . 2017,第10期

机译：在金属，过渡和中毒模式下操作的AR / O-2混合物中Ti反应性溅射过程中的等离子体表征：直流和高功率脉冲磁控管排放的比较
4. Influence of Pressure and Power on the Composition and Time Evolution of Plasmas in High Power Impulse Magnetron Sputtering [C] . A.P. Ehiasarian, R. New, P.Eh. Hovsepian, Society of Vacuum Coaters Annual Technical Conference; 20040424-29; Dallas,TX(US) . 2004

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5. Comparison of high power impulse magnetron sputtering and modulated pulsed power sputtering for interconnect metallization. [D] . Meng, Liang. 2013

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7. beta-Ta and alpha-Cr thin films deposited by high power impulse magnetron sputtering and direct current magnetron sputtering in hydrogen containing plasmas [O] . Högberg, Hans, Tengdelius, Lina, Samuelsson, Mattias, 2014

机译：通过高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜

Evidence for breathing modes in direct current, pulsed, and high power impulse magnetron sputtering plasmas

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