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【2h】

Application of sputter etching treatment to the formation of semiconducting silicide film on Si substrate

机译：溅射蚀刻处理在Si衬底上形成半导体硅化物膜的应用

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K. Yamaguchi; F. Esaka; M. Sasase; H. Yamamoto; K. Hojou;
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年度 2012
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