机译:尾态联合密度法研究氢化非晶碳化硅薄膜的室温光致发光光谱及其在等离子体沉积氢化非晶碳化硅薄膜中的应用
机译:低温等离子体化学气相沉积法生长非晶硅膜表面粗糙度演变的实验和理论研究
机译:在室温下以不同的射频卡盘功率通过电子回旋共振化学气相沉积法沉积的氢化非晶硅膜
机译:低温PECVD沉积的氢化非晶硅氧化膜的电,光学和结构研究,用于晶体硅太阳能电池的表面钝化
机译:通过在高温和低压下制造来改善氢化非晶硅太阳能电池的光诱导降解
机译:低温生长的氢化非晶硅氧氮化硅膜的水蒸气降解作用
机译:在室温下通过低频等离子体化学气相沉积法沉积的氢化非晶碳膜
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<辉光放电分解制备离子镀和氢化非晶硼薄膜制备氢化非晶硅薄膜及其表征>>相似的文献。最终报告,1980年4月1日至1981年5月31日