机译:通过聚焦离子束刻蚀的后处理实现垂直腔面发射激光器的模式控制
机译:通过原位干法刻蚀和分子束外延再生制备的垂直腔面发射激光二极管
机译:使用光电化学蚀刻制造的偏振比为100%的非极性III氮化物垂直腔面发射激光器
机译:通过CH / sub 4 // H / sub 2 /斜面反应性离子刻蚀制成的1.3 / splμ/ m波长,折叠腔面发射激光器
机译:圆形光栅表面发射分布式布拉格反射器激光器的聚焦,波长调谐,光束控制和光束整形。
机译:不同腔配置中锁模垂直外腔面发射激光器的时滞-微分方程建模
机译:通过聚焦离子束蚀刻制造的折叠腔表面发射激光器
机译:采用简单化学蚀刻工艺制造的具有低阈值电流密度的大直径InGaas / alGaas垂直腔面发射激光器