VERSATILE ELECTRON BOMBARDMENT EVAPORATION SOURCE.

机译：多功能电子轰击蒸发源。

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R.L. Beno; T. Van Vorous;
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年度 1967
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1. Miniature electron bombardment evaporation source: evaporation rate measurement [J] . V.Nehasil, K.Masek, O.Moreau Czechoslovak Journal of Physics . 1997,第3期

机译：微型电子轰击蒸发源：蒸发速率测量
2. X-ray photoelectron spectroscopy characterization of CN{sub}x thin films deposited by electron beam evaporation and nitrogen ion bombardment [J] . Peter Petrov, D. B. Dimitrov, V. Krastev, Diamond and Related Materials . 2000,第3a6期

机译：电子束蒸发和氮离子轰击沉积的CN {sub} x薄膜的X射线光电子能谱表征
3. ZnO films deposited by electron-beam evaporation: the effect of ion bombardment [J] . A. N. Gruzintsev, V. T. Volkov, L. N. Matveeva Russian Microelectronics . 2002,第3期

机译：电子束蒸发沉积的ZnO薄膜：离子轰击的作用
4. Development of High Temperature Electron Bombardment Evaporator for Ultra-high Vacuum [C] . Shengfang Zhang, Jingpei Liu, Guanhua Zhang, International Conference on Machine Design and Manufacturing Engineering . 2012

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5. Electron emission from surfaces resulting from low energy positron bombardment. [D] . Mukherjee, Saurabh. 2008

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