Development of a laboratory extreme-ultraviolet lithography tool

机译：一种实验室极端紫外线光刻工具的开发

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
D.A. Tichenor; G.D. Kubiak; M.E. Malinowski; R.H. Stulen; S.J. Haney; K.W. Berger; R.P. Nissen; G.A. Wilkerson; P.H. Paul; S.R. Birtola; P.S. Jin; R.W. Arling; A.K. Ray-Chaudhuri; W.C. Sweatt; W.W. Chow; J.E. Bjorkholm; R.R. Freeman; M.D. Himel; A.A. MacDowell; D.M. Tennant; L.A. Fetter; O.R. II Wood; W.K. Waskiewicz; D.L. White; D.L. Windt; T.E. Jewell;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 1994
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Extreme-ultraviolet microexposure tool at 0.5 NA for sub-16 nm lithography [J] . Michael Goldstein, Russ Hudyma, Patrick Naulleau, Optics Letters . 2008,第24期

机译：0.5 NA的极紫外微曝光工具，用于16 nm以下的光刻
2. Development of stable extreme-ultraviolet sources for use in lithography exposure systems [J] . Igor V. Fomenkov, Bruno La Fontaine, Daniel Brown, Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS . 2012,第2期

机译：开发用于光刻曝光系统的稳定的极紫外光源
3. Laser-produced plasma-based extreme-ultraviolet light source technology for high-volume manufacturing extreme-ultraviolet lithography [J] . Junichi Fujimoto, Hakaru Mizoguchi, Tamotsu Abe, Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS . 2012,第2期

机译：激光生产的基于等离子体的极紫外光源技术，用于大批量制造极紫外光刻
4. Development of a laboratory extreme-ultraviolet lithography tool [C] . Author(s): Daniel A. Tichenor Sandia National Labs. Livermore CA USA, Glenn D. Kubiak Sandia National Labs. Livermore CA USA, Michael E. Malinowski Sandia National Labs. Livermore CA USA, Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV . 1994

机译：开发实验室极紫外光刻工具
5. Intense capillary discharge plasma extreme-ultraviolet sources for extreme-ultraviolet lithography and other extreme-ultraviolet imaging applications. [D] . Klosner, Marc Alexander. 1998

机译：强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源，用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
6. Towards High Accuracy Reflectometry for Extreme-Ultraviolet Lithography [O] . Charles Tarrio, Steven Grantham, Matthew B. Squires, 2003

机译：迈向极紫外光刻的高精度反射计
7. Multilayer optics for an extreme-ultraviolet lithography tool with 70-nm resolution [O] . Regina Soufli, Eberhard A. Spiller, Mark A. Schmidt, 2001

机译：<标题>具有70-nm分辨率的极端紫外光刻工具的多层光学器件
8. Development of a laboratory extreme-ultraviolet lithography tool [R] . Tichenor, D. A., Kubiak, G. D., Malinowski, M. E., 1994

机译：开发实验室极紫外光刻工具

Development of a laboratory extreme-ultraviolet lithography tool

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅