机译:等离子体增强原子层沉积作为Cu金属化的扩散阻挡层,形成高度共形的W-Si-N薄膜。
机译:成分对化学沉积Ni-Co-P合金薄膜作为铜金属化扩散阻挡层的影响
机译:RuZr合金薄膜在铜金属化过程中作为扩散阻挡层的热稳定性
机译:非晶态金属合金:用于钴的薄膜扩散势垒的新进展
机译:在Cu / SiLK(TM)金属化方案中,集成非晶钽氮化硅(TaSiN)薄膜作为扩散阻挡层。
机译:通过PECVD在镍金属化多孔硅上沉积的非晶硅薄膜的结晶
机译:Ta-Si-N非晶态薄膜合金作为Al / Si金属镀层的扩散阻挡层
机译:非晶金属合金:铜金属化薄膜扩散阻挡层的新进展