机译:适用于塔比为4或更小的图形。请说明将框架的宽度视为框架的最外表面而不是框架的核心的原因,以及当外桩在桩基础建筑物内偏心时也计算框架的宽度的原因。
机译:具有抗蚀剂去除工艺的半导体和液晶曝光掩模清洁设备(第2部分):清洁剂
机译:半导体和液晶曝光掩模清洁装置,配备有用于去除抗蚀剂去除的方法(第2部分):在清洁化学溶液上
机译:关于地面条件对悬浮式化学注射剂渗透性的影响(第3部分):悬浮式化学注射剂对地面渗透的评估
机译:兔坐骨神经牵拉性损伤的实验研究-脑内神经性水肿和神经纤维化的发展
机译:对酸性填料酸根和运动的影响的影响
机译:プルトニウムの沸腾型軽水炉への直接代替利用について