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机译:低能量电子束光刻光致抗蚀剂材料的开发
Satoshi Saito; Tetsuro Nakasugi;
机译:低能电子束光刻光刻胶材料的发展
机译:使用高能电子束光刻技术在具有UV1116光刻胶的ITO玻璃上制备纳米结构的透射光学器件
机译:邻近电子光刻技术的进展:使用低能电子束邻近投影光刻技术β的打印和覆盖性能演示
机译:开发新的低能量电子束光刻仿真工具
机译:用于半导体器件的纳米压印和电子束光刻材料的开发和研究。
机译:海藻糖糖醇抗性可通过电子束光刻直接写入蛋白质图案
机译:低能量电子束接近投影光刻曝光工具开发的现状。
机译:适于作为酸产生剂的盐,适用于ARF准分子激光光刻,KRF准分子激光光刻,EUV,乳化光刻和电子束光刻的光致抗蚀剂组合物,以及光致抗蚀剂的制造方法
机译:活化室和套件,用于处理设备中以降低电子亲和力,包含所述成套工具并用于降低电子亲和力的处理设备,光电阴极电子束源,含电子枪的电子枪,含电子阴极的电子电极显微镜,扫描电子显微镜,电子束全息照相术,电子束光刻设备,电子束衍射设备和电子束扫描设备
机译:活化室和套件,用于处理设备中以降低电子亲和力,包含所述成套工具并用于降低电子亲和力的处理设备,光电阴极电子束源,含有电子枪的电子枪,包含电子的电极,电阴极,电子电极显微镜,扫描电子显微镜,电子束全息照相术,电子束光刻设备,电子束衍射设备和电子束扫描设备
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