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【2h】

PLASMA PARAMETERS AND COMPOSITION IN CF4 + O2 + Ar AND CHF3 + O2 +Ar IN REACTIVE ION ETCHING PROCESSES

机译：在反应离子蚀刻工艺中CF4 + O 2 + Ar和CHF3 + O2 + AR中的血浆参数和组合物

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Alexander M. Efremov; Alexander M. Sobolev; Vladimir B. Betelin; Kwang-Ho Kwon;
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年度 2019
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