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Piezoelectric nanoelectromechanical resonators based on aluminum nitride thin films

机译:基于氮化铝薄膜的压电纳米机电谐振器

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摘要

We demonstrate piezoelectrically actuated, electrically tunable nanomechanical resonators based on multilayers containing a 100-nm-thin aluminum nitride (AlN) layer. Efficient piezoelectric actuation of very high frequency fundamental flexural modes up to ~80 MHz is demonstrated at room temperature. Thermomechanical fluctuations of AlN cantilevers measured by optical interferometry enable calibration of the transduction responsivity and displacement sensitivities of the resonators. Measurements and analyses show that the 100 nm AlN layer employed has an excellent piezoelectric coefficient, d_(31)=2.4 pm/V. Doubly clamped AlN beams exhibit significant frequency tuning behavior with applied dc voltage.
机译:我们演示了压电驱动,电可调纳米机械谐振器基于包含100纳米薄氮化铝(AlN)层的多层。在室温下证明了高达80 MHz的甚高频基本挠曲模的高效压电驱动。通过光学干涉测量法测量的AlN悬臂梁的热机械波动使得能够校准谐振器的传导响应度和位移敏感性。测量和分析表明,采用的100 nm AlN层具有出色的压电系数d_(31)= 2.4 pm / V。双重钳位的AlN光束在施加直流电压时表现出明显的频率调谐行为。

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