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【2h】

ROLE OF MOISTURE FOR ABSORPTION MECHANISMS OF ORGANIC COMPOUNDS ON SI WAFER SURFACES : Gaseous organic compounds in cleanroom air

机译：水分对Si晶片表面有机化合物吸收机制的作用：洁净室空气中的气态有机化合物

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作者
Naoki KAGI; Shuji FUJII; Kazuhiro YUASA; Katsumasa TANAKA;
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年度 1999
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1. ADSORPTION MECHANISMS OF ORGANIC COMPOUNDS ON SI WAFER SURFACES IN CLEANROOM AIR [J] . NAOKI KAGI 日本建築学会计画論文集 . 1999,第516期

机译：洁净空气中有机硅对硅晶片表面的吸附机理
2. ROLE OF MOISTURE FOR ABOSRPTION MECHANISMS OF ORGANIC COMPOUNDS ON SI WAFER SURFACES [J] . NAOKI KAGI 日本建築学会计画論文集 . 1999,第517期

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3. Theoretical Study on Adsorption Mechanisms of Gaseous Matter From Cleanroom air Onto Silicon Wafer Surface [J] . Naoki Kagi, Shuji Fujii 日本建築学会计画論文集 . 2000,第530期

机译：洁净室空气对硅晶片表面气体物质吸附机理的理论研究
4. "Evaluation of Contaminants in the Cleanroom Atmosphere and on Silicon Wafer Surface (II) Organic Compounds Contaminants" [C] . T. Fujimoto, K. Takeda, T. Nonaka, Annual semiconductor pure water and chemicals conference;SPWCC'97 . 1997

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7. Mercury - Method for the determination of vapour from mercury and its inorganic compounds in workplace air using atomic absorption spectrometry Air Monitoring Methods, 2017 [O] . R. Hebisch, N. Fröhlich, T. Houben, 2018

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