首页> 外文OA文献 >Minority Carrier Trap in n-Type 4H–SiC Schottky Barrier Diodes
【2h】

Minority Carrier Trap in n-Type 4H–SiC Schottky Barrier Diodes

机译:N型4H-SIC肖特基障屏障二极管中的少数载体陷阱

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

We present preliminary results on minority carrier traps in as-grown n-type 4H−SiC Schottky barrier diodes. The minority carrier traps are crucial for charge trapping and recombination processes. In this study, minority carrier traps were investigated by means of minority carrier transient spectroscopy (MCTS) and high-resolution Laplace-MCTS measurements. A single minority carrier trap with its energy level position at Ev + 0.28 eV was detected and assigned to boron-related defects.
机译:我们在生长的N型4H-SiC肖特基势垒二极管上提出初步结果。少数型载体陷阱对于电荷捕获和重组过程至关重要。在该研究中,通过少数型载体瞬态光谱(MCT)和高分辨率Laplace-MCTS测量来研究少数群体载体陷阱。检测到具有其EV + 0.28eV的能量水平位置的单个少数型载体陷阱,并分配给与硼相关的缺陷。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号