首页> 外文OA文献 >Pembangunan bahan fotopeka silika terdop fosforus untuk fabrikasi pandu gelombang optik (Development of phosphorus doped silica photosensitive material for optical waveguide fabrication)
【2h】

Pembangunan bahan fotopeka silika terdop fosforus untuk fabrikasi pandu gelombang optik (Development of phosphorus doped silica photosensitive material for optical waveguide fabrication)

机译:用于光波导制造的掺磷二氧化硅光敏材料的开发(用于光波导制造的掺磷二氧化硅光敏材料的开发)

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

Kajian ini dijalankan untuk membangunkan pandu gelombang optik menggunakan bahan fotopeka silika terdop fosforus. Teknik penyalutan mejam menggunakan sumber berbentuk cecair iaitu tetraetil ortosilikat, asid fosforik dan juga PBF untuk menghasilkan pandu gelombang fotopeka silika terdop fosforus dan boron. Pada ketebalan antara 1 μm hingga 8 μm, modulasi indeks biasan yang ditunjukkan di dalam bahan fotopeka silika terdop fosforon-boron adala 1×10-14 pada ketebalan 3 μm hingga 8 μm. Semua ujian dan rawatan fotopeka dilakukan dengan menggunakan sumber UV 366 nm, 0.369 mW/cm2 pada kadar denyutan 50 Hz. Semua sampel menunjukkan penurunan nilai indeks di bawah dedahan ini. Tempoh dedahan yang diperlukan dengan menggunakan kuasa UV yang berkenaan adalah kira-kira 10 minit. Dengan menggunakan penyurih laser ArF atau KrF yang berkuasa 10 mW misalnya, tempoh dedahan yang diperlukan adalah cuma 20 hingga 30 saat untuk mengubah indeks biasan pandu gelombang. Selain daripada itu, proses pemampasan juga dimasukkan yang bertujuan untuk memperbetulkan semula prestasi akibat daripada kesan toleransi semasa proses simulasi. Bagi memberikan kecekapan dalam pengukuran indeks biasan dan ketebalan lapisan BPSG, satu program antara muka penggunaan grafik dibangunkan untuk mempercepatkan dan meningkatkan kejituan bacaan yang diukur daripada pengganding prisma manual.
机译:进行这项研究以开发使用磷包覆的二氧化硅浮游植物的光波导。重涂技术利用液态的原硅酸四乙酯,磷酸和PBF来产生磷和硼处理过的二氧化硅植物苷。在厚度为1 µm至8 µm的情况下,二氧化硅膦硼萃取物中的折射率在3 µm至8 µm时的调制度为1×10–14。所有系统发育测试和处理均使用366 nm,0.369 mW / cm2的UV源以50 Hz脉冲进行。所有样品在该暴露下均显示出指数值的降低。施加紫外线功率所需的曝光时间约为10分钟。例如,使用10 mW ArF或KrF激光探测器,曝光时间仅为20到30秒,以改变波导的折射率。此外,还包括补偿过程,该过程旨在通过仿真过程中的公差效应来纠正性能。为了提供对常规折射率和BPSG层厚度的测量效率,开发了图形界面程序来加速和提高从手动棱镜耦合测量的读取精度。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号