机译:偏置电压对通过逐层(LBL)沉积技术生长的nc-Si:H薄膜的光学和结构性质的影响
机译:逐层沉积nc-Si:H薄膜的结构和光学性质
机译:射频功率对通过PE-CVD沉积的氢化纳米晶硅(nc-Si:H)薄膜的结构光学和电学性质的影响
机译:热退火对通过层(LBL)沉积技术制备的氢化硅(Si:H)薄膜的光学,结构和形态学性能的影响
机译:使用逐层沉积技术,在平坦表面和胶体颗粒上形成功能性聚电解质的超薄膜。
机译:Zr掺杂对原子层沉积ZnO薄膜光学电学和微结构性质的影响
机译:通过分层(LBL)沉积技术在不同的RF功率下生长的nc-Si:H薄膜的结晶度和Si-H键合配置