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Effect of Pad Elastic Modulus on The Polishing Induced Plastic Subsurface Damages Distribution of Fused Silica Optics

机译:焊盘弹性模量对抛光诱导塑料地下损伤分布熔融石英光学的影响

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摘要

The plastic subsurface damages distribution of fused silica optics polished with different pads are investigated. The elastic interaction model, plastic indentation model and wear relationships are combined together to theoretically characterize the plastic subsurface damages distribution in different polishing processes, which shows consistent results with experiments. It reveals that most of the polishing induced subsurface damages are plastic damages. A few largest polishing particles in the tail end distribution mainly decide the final depth distribution and density of the polishing induced plastic subsurface damages. The larger pad elastic modulus will make the few largest polishing particles bear much larger load and generate larger proportion of observable plastic subsurface damages. Using polishing pad with lower elastic modulus is prominent for restricting the generation of fractures and plastic damages.
机译:研究了用不同焊盘抛光抛光的熔融石英光学分布的塑料地下损坏。弹性相互作用模型,塑料压痕模型和磨损关系组合在一起,以理论上表征不同抛光过程中的塑料地下损伤分布,其显示了一致的实验结果。它揭示了大多数抛光诱导的地下损伤是塑料损伤。尾部分布中的一些最大抛光颗粒主要决定抛光诱导的塑料地下损伤的最终深度分布和密度。较大的焊盘弹性模量将使少数最大的抛光颗粒承受更大的负荷,并产生更大比例的可观察塑料地下损坏。利用具有较低弹性模量的抛光垫对于限制裂缝和塑料损坏的产生是突出的。

著录项

  • 作者

    Xiang He; Chao Cai; Ping Ma;

  • 作者单位
  • 年度 2019
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类

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