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Monte Carlo analysis of repeated overshoot structures

机译:蒙特卡罗反复过冲结构分析

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摘要

The effectiveness of two recently proposed repeated overshoot structures is investigated using Monte Carlo simulation. Results are presented showing electron velocity, energy and valley occupancy as a function of bias conditions. High local peak velocities sometimes are observed, but for a given mean field across a unit cell the average velocities are always relatively low; less than or at best equal to the steady state velocity in bulk GaAs with the same average fields. The reasons for this are explained in terms of the diffusion process.
机译:使用Monte Carlo仿真研究了最近提出的两个最近提出的重复过冲结构的有效性。提出了作为偏置条件的函数的电子速度,能量和山谷占用的结果。有时会观察到高局部峰值速度,但对于在单元电池上的给定平均场,平均速度始终相对较低;少于或最佳等于具有相同平均字段的批量GaAs中的稳态速度。就扩散过程解释了这一点的原因。

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