机译:反应射频磁控溅射沉积及后续退火工艺在(0001)或(1010)Al_2O_3上制备二氧化钒和七氧化二钒薄膜
机译:通过磁控溅射在二氧化硅缓冲层上沉积的氧化钒薄膜
机译:通过在室温下对通过射频磁控溅射法生长的层进行热退火而获得的V2O5薄膜的电传输性能
机译:直流面对靶反应磁控溅射快速热氧化退火对钒氧化物薄膜结构的影响
机译:交流磁控溅射在低温下沉积的生物相容性氧化铝膜的性能。
机译:快速热退火用于射频磁控溅射沉积的高质量ITO薄膜
机译:基材温度对磁控溅射层逐层掺杂锌氧化物薄膜结构,光学和电性能的影响