机译:高氯酸/乙腈中碳和贵金属表面上聚苯胺薄膜的电化学沉积和性能
机译:通过物理气相沉积(PVD)获得的β-三钙(β-TCP)膜的磨损过程的评估
机译:混合PVD-PECVD沉积法合成Ag掺杂的氢化碳薄膜
机译:半导体表面上的形态学复合贵金属薄膜的无电沉积和图案化
机译:使用PVD两步氮化钛阻挡层工艺的优势,以及由于钨膜的不均匀性,钨膜沉积产生的残留副产物对工艺集成的影响。
机译:金属有机化学气相沉积(MOCVD)异质外延Pr0.7Ca0.3MnO3薄膜的合成:工艺条件对结构/形态和功能特性的影响
机译:高氯酸/乙腈中碳和贵金属表面上碳和贵金属表面的电化学沉积及性能
机译:反应电子束 - 物理气相沉积(EB-pVD)沉积的微米厚氧化钆薄膜的工艺 - 结构 - 性质关系。