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Optical band gap of BiFeO3 grown by molecular-beam epitaxy

机译:分子束外延生长的BifeO3光带隙

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摘要

BiFeO3 thin films have been deposited on (001) SrTiO3 substrates by adsorption-controlled reactive molecular-beam epitaxy. For a given bismuth overpressure and oxygen activity, single-phase BiFeO3 films can be grown over a range of deposition temperatures in accordance with thermodynamic calculations. Four-circle x-ray diffraction reveals phase-pure, epitaxial films with omega rocking curve full width at half maximum values as narrow as 29 arc sec (0.008 degrees). Multiple-angle spectroscopic ellipsometry reveals a direct optical band gap at 2.74 eV for stoichiometric as well as 5% bismuth-deficient single-phase BiFeO3 films. (C) 2008 American Institute of Physics.
机译:通过吸附控制的反应性分子束外延沉积BiFeO3薄膜已沉积在(001)SRTIO3底物上。对于给定的铋过压和氧活性,可以根据热力学计算在一系列沉积温度范围内生长单相BIFEO3薄膜。四圈X射线衍射显示相纯,外延膜,ω摇摆曲线全宽在半最大值下,如29弧形秒(0.008度)。多角度光谱椭圆形测定法显示出2.74eV的直接光带隙,用于化学计量以及5%易缺乏单相BIFEO3膜。 (c)2008年美国物理研究所。

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