机译：在CH3OH / Ar，C2H5OH / Ar，CH4 / Ar和CH4 / O-2 / Ar气体混合物的高密度等离子体中干蚀刻钯薄膜
机译：HBr / Ar和Cl2 / Ar电感耦合等离子体中TiO2 薄膜的刻蚀特性及机理
机译：在感应耦合等离子体中使用Ar / CHF_3，Ar / Cl_2和Ar / BCl_3气体化学方法对TiN膜进行干法刻蚀
机译：使用BCl3 / Ar和Cl2 / Ar等离子体对GaAs通孔进行干法等离子体蚀刻
机译：用于加工铌超导射频空腔的氩气和Ar / Cl2等离子体的表征
机译：不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译：Al2O3膜在O2 / BCL3 / AR电感耦合等离子体中的干蚀刻
机译：在BCl3 / ar和Cl2 / ar中的III-V锑化物的电感耦合等离子体蚀刻;真空科学与技术杂志
