机译:Mg_(0.1)Zn_(0.9)O层厚度对脉冲激光沉积法制备的ZnO / Mg_(0.1)Zn_(0.9)O纳米多层薄膜光学带隙的影响
机译:ITO缓冲层对脉冲激光沉积技术制备的ZnO多层薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:镁掺杂浓度对脉冲激光沉积法制备ZnO / Mg_xZn_(1-x)O多层薄膜带隙的影响
机译:在不同氧气压力下通过脉冲激光沉积制备的未掺杂和掺杂Cu的ZnO薄膜的结构和光学性质
机译:通过脉冲激光沉积和溶胶-凝胶法控制氧化锌薄膜的电阻率和光学性质。
机译:脉冲激光沉积法制备MgAl2O4-(Ni0.5Zn0.5)Fe2O4薄膜的磁性和光学性质
机译:通过脉冲激光沉积方法制备Ga2O3-Zno光学记录膜
机译:通过脉冲准分子激光沉积制备的a-C:N薄膜的结构和性质