机译:通过光化学金属 - 有机沉积形成的直接可绘制LA取代Bi4Ti3O12薄膜的铁电性能
机译:SRTIO3缓冲层对使用光化学金属 - 有机沉积制造的直接可图案化BIFEO3薄膜相形成及性能的影响
机译:光化学金属法制备可直接构图的Bi 3.25 sub> La 0.75 sub> Ti 3 sub> O 12 sub>薄膜的微观结构和铁电性能有机沉积
机译:光化学金属有机沉积法制备可直接图案化的Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)薄膜的微观结构和铁电性能
机译:通过光化学金属有机沉积形成的可直接图案化的SBT薄膜的电学性质
机译:用于超导电子的hall钡钙铜氧化物薄膜:前体性能,沉积机理,相形成和通过金属有机化学气相沉积形成的三层结构。
机译:脉冲激光沉积制备的氮取代钛酸锶锶薄膜的光学性质
机译:通过光化学金属 - 有机沉积形成导电材料进入直接可绘制的SnO2薄膜的研究