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机译:EUV光致抗蚀剂用于酸放大器的光刻和化学模型
Seth Kruger; Craig Higgins; Cregg Gallatin; Robert Brainard;
机译:用于EUV光刻胶的酸放大器的光刻和化学建模
机译:用于EUV光刻胶的新型酸放大器的动力学,化学建模和光刻
机译:EUV光致抗蚀剂中使用的酸放大器的光刻评估和化学建模
机译:用于EUV光刻的光刻胶中的线边缘粗糙度和二次电子相互作用的研究
机译:超越EUV光刻技术:有效光刻胶性能的比较研究
机译:用于EUV光致抗蚀剂的新型酸放大器的动力学,化学建模和光刻
机译:适于作为酸产生剂的盐,适用于ARF准分子激光光刻,KRF准分子激光光刻,EUV,乳化光刻和电子束光刻的光致抗蚀剂组合物,以及光致抗蚀剂的制造方法
机译:一种用于操作euv –光刻系统的方法,以避免通过氢–腐蚀euv光刻系统的组件的化学腐蚀–
机译:EUV光刻系统和在EUV掩模上构图光刻胶层的方法
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