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【2h】

A Three-Dimensional Calculation of the Reactor Impedance for Planar-Type Cylindrical Inductively Coupled Plasma Sources

机译：平面型圆柱电感耦合等离子体源的反应器阻抗的三维计算

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Deuk-Chul Kwon; Nam-Sik Yoon;
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年度 2015
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1. Calculation of the Reactor Impedance forCapacitively Coupled Plasma Sources [J] . Yong-Il KIM, Nam-Sik YOON Journal of the Korean Physical Society . 2009,第5aPta1期

机译：电容耦合等离子体源电抗器阻抗的计算
2. Capacitive Electron Cooling in an Inductively Coupled Plasma Source/Capacitively Coupled Plasma Bias Reactor [J] . Hyun-Su Jun, Dong-Seok Lee, Hong-Young Chang Japanese journal of applied physics . 2013,第10ISSUE1期

机译：电感耦合等离子体源/电容耦合等离子体偏置反应器中的电容电子冷却
3. Frequency dependence of plasma characteristics at different pressures in cylindrical inductively coupled plasma source [J] . Hao Zeyu, Song Jian, Hua Yue, Plasma Science & Technology . 2019,第7期

机译：圆柱电感耦合等离子体源不同压力等离子体特性的频率依赖性
4. Three-dimensional nonlocal heating model of planar-type inductively coupled plasma with rectangular geometry [C] . Su-Bin Song, Nam-Sik Yoon, Han-Yong Lee . 2003

机译：具有矩形几何形状的平面型电感耦合等离子体的三维非局部加热模型
5. Three-dimensional simulation of inductively coupled plasma reactors. [D] . Panagopoulos, Theodoros. 1999

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6. Diamond fingerprinting for source discrimination using laser ablation inductively coupled plasma mass spectrometry (LA-ICP-MS) and Fourier transform infrared spectrometry (FTIR) [O] . Susan Brill, Ndamulelo Lilimu, Deshenthree Chetty 2020

机译：使用激光烧蚀电感耦合等离子体质谱（La-ICP-MS）和傅里叶变换红外光谱（FTIR）的磁性指纹识别用于源区辨别
7. A Global Simulation of SiH4/H2Discharge in a Planar-type Inductively Coupled Plasma Source [O] . Won-Gi Lee, Deuk-Chul Kwon, Nam-Sik Yoon 2009

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8. Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectrometric Method for Trace Element Analysis of Water and Wastes, Method 200.7. Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Analysis of Drinking Water. Appendix to Method 200.7, Revision 1.3. [R] . Martin, T. D., Kopp, J. F., Martin, E. R., 1987

机译：用于水和废物微量元素分析的电感耦合等离子体原子发射光谱法，方法200.7。饮用水的电感耦合等离子体原子发射分析。方法200.7，修订版1.3的附录。

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