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Supplemental Information 4: Comparison of ASSIGN, Framingham, and QRISK®2 CVD risk models based on the CVD, Non-CVD and non-differentiated ranges.

机译：补充信息4：基于CVD，非CVD和非分化范围的分配，Framingham和QRISK2 CVD风险模型的比较。

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2. The QRISK was less likely to overestimate cardiovascular risk than the Framingham or ASSIGN equations [J] . Jaspal S. Taggar MD BioScience . 2008,第1期

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5. Characterization of hafnium based high-k thin films for solid state transistor gate application deposited by CVD and PECVD using hafnium(IV) tert-butoxide. [D] . Bhandari, Harish Babu. 2006

机译：使用叔丁醇ha（IV）通过CVD和PECVD沉积的固态晶体管栅极应用的based基高k薄膜的特性表征。
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8. Detailed Modeling of Chemistry and Transport Phenomena in CVD Reactors.Application to Tungsten LPCVD (Gedetailleerde Modellering van Chemie en Transportverschijnselen in CVD Reactoren. Toepassing op Wolfraam LPCVD) [R] . Kuijlaars, K. J. 1996

机译：CVD反应器中化学和传输现象的详细建模。应用于钨LpCVD（Gedetailleerde modellering van Chemie en Transportverschijnselen in CVD Reactoren。Toepassing op Wolfraam LpCVD）

Supplemental Information 4: Comparison of ASSIGN, Framingham, and QRISK®2 CVD risk models based on the CVD, Non-CVD and non-differentiated ranges.

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