Actinic inspection of EUV reticles with arbitrary pattern design

机译：随着任意图案设计的EUV栓电极检查

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Iacopo Mochi; Patrick Helfenstein; Yasin Ekinci; Dimitrios Kazazis; Shusuke Yoshitake; Rajeev Rajendran; Sara Fernandez;
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年度 2017
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1. RESCAN: an actinic lensless microscope for defect inspection of EUV reticles [J] . lacopo Mochi, Patrick Helfenstein, Istvan Mohacsi, Journal of microanolithography, MEMS, and MOEMS . 2017,第4期

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3. Instrumented Reticle for In-Situ Burl Inspection of EUV Clamps [J] . Research Disclosure . 2018,第655期

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4. Actinic inspection of EUV reticles with arbitrary pattern design [C] . Iacopo Mochi, Patrick Helfenstein, Rajendran Rajeev, International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2017 . 2017

机译：任意图案设计的EUV标线的光化检查
5. Key Challenges in EUV Mask Technology: Actinic Mask Inspection and Mask 3D Effects. [D] . Wang, Yow-Gwo. 2017

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6. Patterning highly ordered arrays of complex nanofeatures through EUV directed polarity switching of non chemically amplified photoresist [O] . Subrata Ghosh, V. S. V. Satyanarayana, Bulti Pramanick, -1

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7. EUV and non-EUV inspection of reticle defect repair sites [O] . Kenneth A. Goldberg, Anton Barty, Phillip Seidel, 2007

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8. SEMATECH High-NA Actinic Reticle Review Project (SHARP) EUV Mask-Imaging Microscope. [R] . Mochi, I., Benk, M. P., Lin, C., 2013

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