机译:用四乙基甲基氨基沉积原子层沉积HF <亚> 0.5 sum> Zr <亚>分析薄膜的铁电性能的比较研究前体
机译:四(二甲基氨基)钒前体的钒氧化物薄膜的原子层沉积
机译:以四烷基二甲基氨基钒(IV)为钒前驱体的VO2膜的原子层沉积
机译:四(乙基甲基氨基)锡前驱体用于薄膜晶体管的原子层沉积法制备氧化锡膜
机译:用于器件应用的新型二氧化钒/硅和二氧化钒/蓝宝石外延薄膜异质结构中的半导体到金属的过渡控制。
机译:四(乙基甲基氨基)和四(二甲基氨基)前体在原子层沉积Hf0.5Zr0.5O2薄膜中铁电性能的比较研究
机译:用四(乙基甲基氨基)和四甲基(二甲基氨基)前体沉积原子层铁电性能的比较研究。和四(二甲基氨基)前体沉积HF0.5ZR0.5O2薄膜
机译:二氧化钒薄膜的制备与性能