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机译:使用三维掩模系统制造纹理的DLC薄膜
Mai TAKASHIMA; Kei KANZAWA; Shin MATSUO; Makoto MATSUO; Yoshinao IWAMOTO; Naoto OHTAKE;
机译:使用三维掩膜系统制作带纹理的DLC膜
机译:DLC膜作为集成电路制造中的掩模的应用
机译:用多膜厚度掩模通过一步光刻制造三维微结构
机译:使用先进的相位掩膜技术对三维光子晶体模板进行激光全息制造
机译:玻璃上的液相结晶硅薄膜太阳能电池的光滑抗反射三维纹理
机译:喷涂技术在双轴织构Ni-W衬底上制备掺Sm的CeO2薄膜的应用
机译:在双轴织构金属基板上外延沉积YBCO厚膜制备高临界电流密度超导带
机译:DLC DLC薄膜制造方法
机译:用于太阳能电池基板的纹理区域形成方法,包括通过使用模具施加压力在膜中形成掩模,并且蚀刻掩模和基板直到掩模被完全去除,其中掩模具有与基板互补的图案。
机译:通过快速热退火制备高织构化锂钴氧化物薄膜
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