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【2h】

High-κ Dielectric on ReS2: In-Situ Thermal Versus Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of Al2O3

机译：Res2高κ电介质：原位热量与血浆增强的血浆增强原子层沉积Al2O3

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Ava Khosravi; Rafik Addou; Massimo Catalano; Jiyoung Kim; Robert Wallace;
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年度 2019
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