机译:基于C-四曲酮烯芯(4)的三组分阴性型光致抗蚀剂,一种环酰基,交联剂和光酸发生器。
机译:基于杯[4]间苯二甲烯衍生物,交联剂和光致产酸剂的新型三组分光刻胶
机译:基于聚(邻羟基酰胺),活性酯型交联剂和光碱产生剂的碱性可显影,化学放大的负型光敏聚(苯并恶唑)抗蚀剂。
机译:基于聚(邻羟基酰胺),活性酯型交联剂和光碱产生剂的碱性可显影,化学放大的负型光敏聚(苯并恶唑)抗蚀剂。
机译:基于C-四酸胶碱4环酰基,交联剂和光酸发生器的三组分负型光致抗蚀剂
机译:强大的三组分/一锅不对称合成手性色氨酸衍生物的方法,以及通过加速热分解研究和路易斯碱稳定化研究四氢呋喃中硼烷-四氢呋喃配合物的分解
机译:干膜光致抗蚀剂为基础微制造:制造毫米波波导组分的一种新方法
机译:新的阴性型光敏聚(亚苯基醚):2聚(2-羟基-6-甲基苯酚-CO-2,6-二甲基苯酚),交联剂和光酸发生器。
机译:碱性和paG对EUV光刻胶脱保护模糊的影响及对噪声的一些思考