机译:低压感应耦合N2-Ar等离子体中解离分数与光发射特性的压力相关性
机译:Cl-2 / Ar和CF4 / Ar电感耦合等离子体中Pb(Zr,Ti)O-3薄膜的刻蚀特性:气体混合比的影响
机译:感应耦合的HBr / Ar等离子体中In_2O_3和SnO_2薄膜的刻蚀特性:气体混合比和偏置功率的影响
机译:氩气压力和射频功率感应耦合等离子体的电光特性
机译:第一部分:用于质谱的低功率,减压等离子体电离源的开发:增强物种研究的潜力。第二部分电感耦合等离子体质谱与高效液相色谱法在铬配合物偶氮染料的铬形态分析中的应用。
机译:硅晶片蚀刻速率特性具有突发宽度使用150 kHz带高功率突发电感耦合等离子体
机译:低压电感耦合N2-ar等离子体中解离分数和光发射特性的压力依赖性
机译:用于高功率,RF感应耦合等离子体的光学诊断