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【2h】

Resolution enhancement using plasmonic metamask for wafer-scale photolithography in the far field

机译：在远场中使用等离子体元域进行晶片级光刻的分辨率提升

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Seunghwa Baek; Gumin Kang; Min Kang; Chang-Won Lee; Kyoungsik Kim;
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年度 2016
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1. Resolution enhancement using plasmonic metamask for wafer-scale photolithography in the far field [J] . Seunghwa Baek, Gumin Kang, Min Kang, Scientific reports. . 2016,第1期

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3. Direct near-field optical imaging of plasmonic interference fields for high-resolution photolithography [J] . Fu Han Ho Optics Communications: A Journal Devoted to the Rapid Publication of Short Contributions in the Field of Optics and Interaction of Light with Matter . 2014,第Null期

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