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机译:不同退火温度下加工Ti掺杂SnO2薄膜的光电性能
Chi-Fan Liu; Chun-Hsien Kuo; Tao-Hsing Chen; Yu-Sheng Huang;
机译:通过引入Cr缓冲层和后退火制备的Ti掺杂ZnO薄膜的结构和光电性能
机译:GaN编排和退火对SnO2薄膜的光电性质
机译:退火温度对直流比率溅射对Ti掺杂in_2O_3透明导电膜性能的影响
机译:磁性生长和氧退火的SnO2:Co薄膜的物理性质。
机译:退火温度和氧气流量对离子束溅射SnO2-x薄膜性能的影响
机译:退火温度对PD掺杂SnOT2溅射薄膜微观结构和H2感测性能的影响
机译:一种制造白色薄膜的方法,该薄膜可通过控制其制造过程中的延伸温度,延伸比例和热退火温度来获得具有均匀特性的薄膜
机译:氧化物薄膜用组合物,氧化物薄膜的形成方法,使用低温压力退火的电气设备和薄膜晶体管
机译:氧化物薄膜的组合物,氧化物薄膜的形成方法,使用低温压力退火的电气设备以及薄膜晶体管
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