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机译:用二甲胺硼烷作为还原剂电镀Ni-B合金电镀的质量平衡和沉积机理。
Hidemi NAWAFUNE; Yasuhito KOHASHI; Shozo MIZUMOTO;
机译:二甲胺硼烷在化学镀Ni-B中的作用
机译:化学镀金中二甲胺硼烷的多电子转移机理
机译:二甲胺硼烷作为化学沉积工艺还原剂的氧化机理的从头算分子轨道研究
机译:在不同胺存在下,使用二甲胺硼烷的化学镀CO-B沉积作为还原剂
机译:化学镀金液中二甲胺硼烷的反应中间体的动力学,机理和检测。
机译:化学镀制备高稳定性Pd /陶瓷/ Ti-Al合金复合膜
机译:用三甲胺硼烷作为还原剂的化学钯电镀质量平衡与沉积机理。
机译:化学气相沉积法制备亚稳态Ni-B合金的耐磨性
机译:包含极少量二甲胺硼烷的自催化型化学镀Ni-P-Co及其制备方法
机译:少量二乙胺基硼烷的自动催化型无电Ni-P-CO电镀液及其制备方法
机译:非电解锡和锡合金镀浴,TAB的膜载体无效(以特殊的化学沉积方式形成锡或锡合金膜)和特定的化学沉积浴
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