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【2h】

Surface films formed on aluminum during AC etching in hydrochloric acid solution.

机译：在盐酸溶液中的AC蚀刻期间在铝中形成的表面膜。

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Eiichi SUGANUMA; Yuji TANNO; Takeshi ITO; Akira FUNAKOSHI; Kenzo MATSUKI;
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年度 1990
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