AI写作工具
文献服务
退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
机译:DC等离子体CVD法制备钛复合膜。
Yoshiyuki FUNAKI; Tadashi MATSUZAWA; Yen C. HUANG;
机译:直流电弧等离子体喷射CVD制备氮化碳膜
机译:直流电弧等离子体喷射化学汽相淀积法制备高质量金刚石薄膜
机译:在O 2 inf> -N 2 inf>气氛中通过CVD制备氧化钛薄膜
机译:含硅化合物的化学和基于硅的微电子材料的分子方法。制备金属甲硅烷基络合物,研究亚烷基与硅烷之间的反应以及氧化钛薄膜的沉积。
机译:通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl4)前体制备的锡薄膜的数据集
机译:等离子CVD沉积钛化合物薄膜的表征
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积ICP-CVD设备,使用ICP-CVD设备制造没有任何掺杂工艺的P型ZnO薄膜的系统和方法以及光功率化合物半导体
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积(ICP-CVD)设备,系统和方法,用于通过使用ICP-CVD设备和光功率复合半导体在没有任何掺杂过程的情况下制造p型Zno薄膜
机译:通过微波等离子体CVD连续生产大面积功能性气相沉积膜的方法和进行该方法的系统。
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。