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【2h】

Chemical vapor deposition of monolayer-thin WS2 crystals from the WF6 and H2S precursors at low deposition temperature

机译：在低沉积温度下，来自WF6和H 2 S前体的单层薄WS2晶体的化学气相沉积

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B. Groven; D. Claes; A. Nalin Mehta; H. Bender; W. Vandervorst; M. Heyns; M. Caymax; I. Radu; A. Delabie;
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年度 2019
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