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【2h】

Mask roughness induced LER control and mitigation: aberrations sensitivity study and alternate illumination scheme

机译：面膜粗糙度诱导LER控制和缓解：像差敏感性研究和替代照明方案

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Brittany M. McClinton; Patrick P. Naulleau;
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年度 2011
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1. Alternating phase-shifting mask design for low aberration sensitivity [J] . Giuseppe Y. Mak, Alfred K. Wong, Edmund Y. Lam Journal of Microlithography, Microfabrication, and Microsystems. (JM3) . 2005,第1期

机译：交替相移掩模设计，低像差灵敏度
2. Aberration-induced intensity imbalance of alternating phase-shifting mask in lithographic imaging [J] . Bo Peng, Xiangzhao Wang, Zicheng Qiu, Optics Letters . 2010,第9期

机译：光刻成像中像差引起的交替相移掩模的强度不平衡
3. Even aberration measurement of lithographic projection optics based on intensity difference of adjacent peaks in alternating phase-shifting mask image [J] . Bo Peng, Xiangzhao Wang, Zicheng Qiu, Applied optics . 2010,第15期

机译：基于交替相移掩模图像中相邻峰的强度差的光刻投影光学器件的均匀像差测量
4. LER Control and Mitigation: Mask Roughness Induced LER - Aberrations sensitivity study and alternate illumination scheme - (PPT) [C] . B. McClinton, P. Naulleau International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography . 2010

机译：LER控制和缓解：面膜粗糙度诱导LER - 像差敏感性研究和替代照明方案 - （PPT）
5. Mask Roughness Induced Line-Edge Roughness in Extreme Ultraviolet Lithography [D] . McClinton, Brittany 2011

机译：极紫外光刻中掩模的粗糙度引起的线边缘粗糙度
6. Supreme™ laryngeal mask airway insertion requires a lower concentration of sevoflurane than ProSeal™ laryngeal mask airway insertion during target-controlled remifentanil infusion: a prospective randomised controlled study [O] . Cristina Monteserín-Matesanz, Tatiana González, María José Anadón-Baselga, 2020

机译：在目标控制的瑞芬太尼输注过程中Supreme™喉罩气道插入所需的七氟醚浓度低于ProSeal™喉罩气道插入：一项前瞻性随机对照研究
7. Alternating phase-shifting mask design for low aberration sensitivity [O] . Alfred K. Wong 2005

机译：用于低像差灵敏度的交替相移掩模设计

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