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【2h】

high-performance and high-reliability 80-nm gate-length DTMOS with indium super steep retrograde channel

机译：高性能和高可靠性80-NM门长DTMOS，具有铟超陡逆行频道

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1. high-performance and high-reliability 80-nm gate-length DTMOS with indium super steep retrograde channel [J] . Sun-Jay Chang, Chun-Yen Chang IEEE Transactions on Electron Devices . 2000,第12期

机译：具有铟超陡逆行通道的高性能和高可靠性80 nm栅长DTMOS
2. Steep retrograde indium channel profiling for high performance nMOSFETs device fabrication [J] . S.Y. Ong, E.F. Chor, Y.K. Leung Microelectronics journal . 2002,第1a2期

机译：用于高性能nMOSFET器件制造的陡峭逆行铟通道轮廓分析
3. Fabrication of 80-nm T-gate high indium In_(0.7)Ga_(0.3)As/In_(0.6)Ga_(0.4)As composite channels mHEMT on GaAs substrate with simple technological process [J] . Ji Xian, Zhang Xiaodong, Kang Weihua, Journal of Semiconductors . 2016,第2期

机译：在GaAs衬底上用简单的工艺制造80nm T栅高铟In_（0.7）Ga_（0.3）As / In_（0.6）Ga_（0.4）As复合沟道mHEMT
4. Steep Retrograde Indium Channel Profiling for High Performance nMOSFETs Device Fabrication [C] . S. Y. Ong, E. F. Chor, Y. K. Leung, Conference on Design, Modeling, and Simulation in Microelectronics Nov 28-30, 2000 Singapore . 2000

机译：用于高性能nMOSFET器件制造的陡峭逆行铟通道分析
5. Artificial semiconductor/insulator superlattice channel structure for high-performance oxide thin-film transistors [O] . Cheol Hyoun Ahn, Karuppanan Senthil, Hyung Koun Cho, -1

机译：高性能氧化物薄膜晶体管的人工半导体/绝缘体超晶格沟道结构
6. Modish Designation of Hollow-Tubular rGONiMoO4@NiCoS Hybrid Coreshell Electrodes with Multichannel Superconductive Pathways for High-Performance Asymmetric Supercapacitors [O] . -1

机译：具有多通道超导途径的高性能不对称超级电容器的空心管式RGONIMO4 @ NICOS杂交冠状电极的模拟设计

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