机译:液相化学气相沉积法制备BiFeO_3薄膜的金属前驱体的评价
机译:电增强金属有机化学气相沉积技术制备以(hfac)Cu〜i(cod)为前驱体的薄铜膜
机译:使用TBOT作为有前途的前驱体对Ti-O-C-N薄膜进行金属有机化学气相沉积
机译:使用异丙醇用于氧前体的金属化学气相沉积ZnO薄膜的生长
机译:通过金属有机化学气相沉积减少了钇钡铜氧化物超导薄膜的热预算处理。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:钴(I)烯烃配合物:高纯度钴金属薄膜的金属有机化学气相沉积前体