首页> 外文OA文献 >EUV actinic defect inspection and defect printability at the sub-32-nm half-pitch

【2h】

EUV actinic defect inspection and defect printability at the sub-32-nm half-pitch

机译：euv光化缺陷检查和缺陷在子32-32-nm半间距上的可打印性

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Sungmin Huh; Patrick Kearney; Stefan Wurm; Frank Goodwin; Hakseung Han; Kenneth Goldberg; Iacopo Mochi; Eric Gullikson;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2009
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Detection of Printable EUV Mask Absorber Defects and Defect Adders by Full Chip Optical Inspection of EUV Patterned Wafers [J] . Luciana Meli, Ravi Bonam, Scott Halle, IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing . 2017,第4期

机译：通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
2. RESCAN: an actinic lensless microscope for defect inspection of EUV reticles [J] . lacopo Mochi, Patrick Helfenstein, Istvan Mohacsi, Journal of microanolithography, MEMS, and MOEMS . 2017,第4期

机译：RESCAN：用于检查EUV标线缺陷的光化无透镜显微镜
3. Actinic Mask Inspection Using an EUV Microscope: Preparation of a Mirau Interferometer for Phase-Defect Detection [J] . Kazuhiro Hamamoto, Yuzuru Tanaka, Hirotake Kawashima, Japanese Journal of Applied Physics. Part 1, Regular Papers, Brief Communications & Review Papers . 2005,第7B期

机译：使用EUV显微镜进行光化掩模检查：制备用于相缺陷检测的Mirau干涉仪
4. EUV Actinic Defect Inspection and Defect Printability at the Sub-32 nm Half-pitch [C] . Sungmin Huh, rnPatrick Kearney, rnStefan Wnrm, 25th European mask and lithography conference . 2009

机译：小于32 nm半间距的EUV光化缺陷检查和缺陷可印刷性
5. Key Challenges in EUV Mask Technology: Actinic Mask Inspection and Mask 3D Effects. [D] . Wang, Yow-Gwo. 2017

机译：EUV掩模技术的主要挑战：光化掩模检测和掩模3D效果。
6. A Digital Microscopic Inspection of Dentinal Defects after Using Endodontic Retreatment Files [O] . Ammar AbuMostafa, Hala Almoqayyad, Al-Omari Mohammad 2021

机译：使用牙髓后退文件后牙本质缺陷的数字显微镜检查
7. Investigation of buried EUV mask defect printability using actinic inspection and fast simulation [O] . Clifford, C. H., Chan, T. T., Neureuther, A. R., 2009

机译：利用光化学检测和快速模拟研究埋藏EUV掩模缺陷的可印刷性

EUV actinic defect inspection and defect printability at the sub-32-nm half-pitch

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅