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【2h】

Correction to: Nano - Precision Systems for Overlay in Advanced Lithography Processes

机译：校正至：纳米精密系统，用于高级光刻过程中的覆盖

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作者
P. Ajay; S. V. Sreenivasan;
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年度 2019
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1. Nanoscale Magnification and Shape Control System for Precision Overlay in Jet and Flash Imprint Lithography [J] . Cherala A., Schumaker P., Mokaberi B., Mechatronics, IEEE/ASME Transactions on . 2015,第1期

机译：用于喷射和闪光压印光刻的精密叠加的纳米级放大和形状控制系统
2. Nanoimprint lithography with ≤60 nm overlay precision [J] . Wei Wu, Robert G. Walmsley, Wen-Di Li, Applied Physics . 2012,第4期

机译：纳米压印光刻技术，重叠精度≤60nm
3. Nanoimprint lithography with ≤60 nm overlay precision [J] . Wei Wu, Robert G. Walmsley, Wen-Di Li, Applied Physics A: Materials Science & Processing . 2012,第4期

机译：纳米压印光刻技术，重叠精度≤60nm
4. Nano - Precision Systems for Overlay in Advanced Lithography Processes [C] . P. Ajay, S. V. Sreenivasan International Conference on the Industry 4.0 Model for Advanced Manufacturing . 2019

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5. Predicting overlay errors on device wafers due to the interaction of optical and EUV lithography fabrication processes [D] . Zheng, Liang 2006

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6. Fabrication of three-dimensional suspended interlayered and hierarchical nanostructures by accuracy-improved electron beam lithography overlay [O] . Gwanho Yoon, Inki Kim, Sunae So, -1

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