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【2h】

Removal of Photoresist Mask after the Cl2/HBr/CF4Reactive Ion Silicon Etching

机译：在CL2 / HBr / CF4反应离子硅蚀刻之后去除光致抗蚀剂掩模

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Tae-Kyung Ha; Jong-Chang Woo; Gwan-Ha Kim; Chang-Il Kim;
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年度 2010
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