机译:使用四(二甲基氨基)钛前体在原位氧化Ru电极上沉积的血浆结构沉积的血浆增强原子层沉积
机译:使用四乙基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl
机译:NH_3等离子体脉冲时间对以四(二甲基氨基)钛为金属前体的原子层沉积TiN薄膜的影响
机译:NH_3等离子体脉冲时间对使用四甲基(二甲基氨基)钛作为金属前体的原子层沉积锡膜的影响
机译:使用各种Ru(0)金属有机前驱体和分子O2增强成核的Ru薄膜的原子层沉积:在铜电镀和电容器电极的种子层中的应用
机译:使用四-二甲基酰胺基钛和水前体在硅和砷化镓衬底上沉积二氧化钛的原子层。
机译:通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl4)前体制备的锡薄膜的数据集
机译:通过等离子体增强的原子层沉积使用四甲基(二甲基氨基)钛(TDMAT)和四氯化钛(TiCl4)前体制备的锡薄膜的数据集
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。