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机译:通过强电荷 - 格子耦合引起的单层准金属MOS2中可调倒置间隙
Xinmao Yin; Qixing Wang; Liang Cao; Chi Sin Tang; Xin Luo; Yujie Zheng; Lai Mun Wong; Shi Jie Wang; Su Ying Quek; Wenjing Zhang; Andrivo Rusydi; Andrew T. S. Wee;
机译:强电荷-晶格耦合在单层准金属MoS 2中产生可调的反向间隙
机译:在准金属二硫化钼单层中检测到可调倒缝
机译:介电环境和可调带隙晶体管的单层MoS2带隙调制
机译:可调谐微腔中单层异质结构中的强激子-光子耦合
机译:单层MoS2中的筛选,缺陷和悬空键引起的光学损伤阈值
机译:强电荷-晶格耦合在单层准金属MoS2中产生可调谐倒置间隙
机译:金纳米二吡喃基尺寸对单层MOS2激动件强耦合的影响
机译:等离子体诱导层解耦的块状直接间隙MoS2
机译:等离子体诱导层去耦的本体直接间隙MOS2
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