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【2h】

Nanoscale optical critical dimension measurement of a contact hole using deep ultraviolet spectroscopic ellipsometry

机译：纳米级光学临界尺寸测量使用深紫外光谱椭圆形测定法的接触孔

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机译：国际观众

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作者
Houssam Chouaib; Qiang Zhao;
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年度 2013
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正文语种 eng
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