机译:用R.F的正交yalo3(100)底谱系上单斜醚0.9(BIFEO3)-0.1(BICO3)外延膜的制备。磁控溅射
机译:用于MEMS的压电薄膜-r.f.法在Si上生长的PZT,0.7PMN-0.3PT和0.9PMN-0.1PT薄膜的比较研究磁控溅射
机译:通过射频磁控溅射法制备近1-μm-厚的{100} - 厚度的外延y掺杂的HFO2铁电薄膜(100)Si基板上
机译:用r.f法在α-Al_2O_3衬底上合成局部外延α-(Cr_(1-x)Al_X)_2O_3薄膜(0.08≤x≤0.16)。磁控溅射
机译:基材对射频磁控溅射法通过射频磁控溅射法对Bi_(0.9)Nd_(0.1)FeO_3薄膜结构和磁性的影响
机译:射频生长的外延碲化镉和碲化铅层的表征磁控溅射
机译:射频磁控溅射在SrTiO3(100)衬底上制备多铁共取代BiFeO3外延膜
机译:射频磁控溅射法在srTiO3(100)衬底上制备多铁共同取代BiFeO3外延薄膜
机译:正交(001)BiFeO3薄膜在正交TbscO3衬底上的条纹区域结构