机译:使用含氟等离子体和Al(CH_3)_3的各向同性等离子体原子层蚀刻Al_2O_3
机译:使用异丙醇二甲基铝[Al(CH3)2(μ-O i sup> Pr)] 2作为替代铝前体的Al2O3的等离子体增强和热原子层沉积
机译:原位监测使用氢等离子体和氟基团的原子层蚀刻氮化硅的原子层蚀刻
机译:GaN的原子层蚀刻氟基等离子体研究
机译:用于图案转移的高精度等离子刻蚀:基于碳氟化合物的原子层刻蚀
机译:Al2O3的等离子体辅助原子层沉积和聚对二甲苯C双层封装用于慢性植入式电子产品
机译:使用乙酰丙酮和O2等离子体的各向同性原子层蚀刻ZnO